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　　15日早间，上证指数高开0.23%，深证成指涨0.16%，创业板指跌0.13%。开盘后市场继续下探，创业板低开低走，下破2000点，为2020年4月以来首次。

　　不过，上午10点国家统计局发布8月经济数据，多项数据超预期复苏，带动各指数回升。截至午间收盘，两市个股涨多跌少，上证指数涨0.28%，深证成指上涨0.11%，创业板指翻红上涨0.11%。

　　截至发稿上证综指、深证成指和创业板指年内涨幅分别为1.49%、-7.33%、-14.17%。

　　昨日，在创业板上市的苏大维格(300331.SZ)一则自称“已实现光刻机销售”的互动平台回复引爆市场，午后公司股价“20CM”直线涨停，其热度冲上榜首。

　　消息面上，公司14日在互动平台中称：“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。”

　　据中国证券报，苏大维格证券部相关工作人员表示，公司销售的是激光直写光刻机，与芯片光刻机没有关系。该工作人员进一步解释称：“我们把（激光直写）光刻机卖给他们，他们在芯片制造中可能会应用到我们的设备，产品本身不是芯片光刻机。”

　　激光直写光刻机与投资者理解的芯片光刻机差距有多远？某芯片上市公司高管表示，芯片厂现在用的基本都是掩膜光刻机，激光直写光刻技术受限于激光波长，还无法满足高端半导体器件制造的需求。

　　据财联社报道，CINNO Research研究总监刘雨实介绍，“苏大维格的光刻机是指激光直写光刻机，与传统掩膜光刻相比，激光直写精度较差但成本也较低，多用于封装等领域，具有较高的灵活性。”

　　资料显示，苏大维格是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，主要为客户提供不同用途微纳光学产品的设计、开发与制造服务。公司主要产品为微纳光学产品、反光材料、设备。

　　业绩方面，2023年上半年，苏大维格实现营收7.88亿元，同比下降10.47%；归母净利润1217.69万元，同比增长784.54%。

　　苏大维格15日早间收到深交所关注函，要求补充披露公司所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情况，并核实说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距，并进一步提示相关风险。

　　苏大维格在互动平台表示，在大类上，光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机，如ASLM的EUV设备，好比“复印机”，把掩摸上的图形投射到硅片上，可用于各类芯片的批量生产，这类光刻机技术工艺和材料难度极高。

　　第二类是无掩摸光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成相关图形，好比“打印机”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。

　　苏大维格表示，公司长期从事光刻机的研制，光刻机实现了从自用到销售给国内外科研院所，再到销售给相关企业的发展路径。目前，公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率，在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小，部分应用领域离国际先进水平具有一定差距，需要持续的研发投入；纳米压印光刻领域，公司设备主要为自用，对外销售金额与直写光刻机相比较小；此外，公司也开发了投影扫描的光刻设备，拟应用于光伏电镀铜图形化领域，目前尚未实现销售。

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